เทคโนโลยี CVD: รากฐานสำคัญของการวิจัยและพัฒนาวัสดุใหม่และการผลิต

คําแนะนํา

จากห้องปฏิบัติการไปยังสายการผลิตจํานวนมาก อุปกรณ์ CVD เป็นพื้นฐานหลักในการผลิตวัสดุใหม่ จากชิปในสมาร์ทโฟนและจากเซลล์ไฟฟ้าโฟตโวแลติก ไปยังเคลือบแสง, ผลิตภัณฑ์ทั้งหมดนี้ใช้เทคโนโลยีเดียวกันกระบวนการนี้รับผิดชอบในการเจริญเติบโตของฟิล์มบางที่มีฟังก์ชันในขนาดอะตอม และเป็นกระบวนการที่สําคัญที่ทําให้วัสดุใหม่สามารถเปลี่ยนจากห้องปฏิบัติการสู่การผลิตจํานวนมาก.

01 เทคโนโลยี CVD คือ อะไร?

เทคโนโลยี CVD คือกระบวนการที่นําสารประกอบเป็นก๊าซเข้าไปในห้องปฏิกิริยาที่ผ่านการปฏิกิริยาทางเคมีเมื่อเข้าสัมผัสกับพื้นผิวของสับสราทที่ร้อน เพื่อทําให้มีฟิล์มแข็งหรือเคลือบไม่เหมือนกับวิธีการเคลือบแบบดั้งเดิม กระบวนการสร้างฟิล์มใน CVD จะดําเนินการอะตอมต่ออะตอม ทําให้สามารถควบคุมการประกอบ ความหนา และโครงสร้างของฟิล์มได้อย่างแม่นยํามันไม่เหมือนกับการฝากควายทางกายภาพ (PVD): PVD ขึ้นอยู่กับวิธีทางกายภาพในการถ่ายทอดวัสดุ ในขณะที่ CVD ขึ้นอยู่กับปฏิกิริยาทางเคมีในการสร้างวัสดุ

สายการผลิตการฝากแผ่นบาง CVD สําหรับแผ่นแผ่นครึ่งตัวนําเป็นตัวอย่างหลักของการใช้งาน CVD ในขนาดใหญ่

02 ทําไม CVD จึง เป็น คีย์ ในการ วิจัย พัฒนา และ ผลิต วัสดุ ใหม่?

1ความแม่นยําสูง

ความแม่นยําระดับอะตอม CVD สามารถฝากฟิล์มหนาเพียงไม่กี่นาโนเมตร ตอบสนองความต้องการที่เข้มงวดสําหรับความหนาของฟิล์ม

2ความบริสุทธิ์สูง

ความบริสุทธิ์สูงสุด ยกตัวอย่างของวัสดุล่วงหน้าประเภทอิเล็กทรอนิกส์: ความบริสุทธิ์ต้องถึงระยะ 99.9999% และการควบคุมความสกปรกจะกําหนดผลผลิตของวาวเฟอร์โดยตรง

3การผลิตขนาดใหญ่

การผลิตขนาดใหญ่เป็นไปได้ วัสดุที่มีความทันสมัย เช่น กราเฟน ฟิล์มเพชร ซิลิคอนคาร์ไบด์ และกัลเลียมไนไตรได ทั้งหมดพึ่งพา CVD เป็นเส้นทางการผลิตหลักของพวกเขาจากตัวอย่างห้องปฏิบัติการขนาด 2 นิ้ว ไปยังแผ่นแผ่นแผ่นผลิตขนาด 12 นิ้ว, CVD มีศักยภาพทางเทคนิคในการสะสมช่องว่างระหว่าง R & D และการผลิตจํานวนมากไฟ LEDและการเคลือบที่ทันสมัย ทําให้มันเป็นเทคโนโลยีในระดับพื้นฐานสําหรับการอุตสาหกรรมของวัสดุใหม่

03 กระบวนการ CVD ใช้ระบบแก๊สพิเศษ

เทคโนโลยีเชนเจน วอฟลี่ วิศวกรรมระบบก๊าซพิเศษ

สารปฏิกิริยาที่ใช้ใน CVD คือก๊าซพิเศษ เช่น ซิลาน (SiH4), แอมโมเนียค (NH3), ไนตรัสออกไซด์ (N2O) และ เฮ็กซาฟลูอีเทน (C2F6) ความบริสุทธิ์ของก๊าซ, ความมั่นคงของอัตราการไหลของพวกเขาและการควบคุมความดันโดยตรงกําหนดคุณภาพของหนังฝากและความปลอดภัยการผลิตระบบแก๊สพิเศษที่สมบูรณ์แบบประกอบด้วยตู้แก๊สพิเศษ (GC), ท่อความบริสุทธิ์สูง, วาล์วและอุปกรณ์ประกอบ, การตรวจพบการรั่ว, และการบําบัดก๊าซออก (สครับเบอร์):หลังจากถูกควบคุมความดันและติดต่อกันภายในตู้แก๊สพิเศษ, ก๊าซจากกระป๋องถูกส่งไปยังอุปกรณ์การประมวลผลผ่านท่อระดับความบริสุทธิ์สูง; ก๊าซออกปฏิกิริยาจะถูกรักษาโดยเครื่องล้างและปล่อยตามมาตรฐานกฎหมายเนื่องจากก๊าซเช่นไซเลนเป็นก๊าซที่เผาไหม้และระเบิด, ระบบต้องมีเครื่องเตือนรั่ว, ปิดฉุกเฉิน, และความสามารถด้านอากาศระบายอากาศ

กล่องแก๊สพิเศษ (GC)

สินค้ากระเป๋าสะพายแก๊สเฉพาะเจาะจงของเทคโนโลยีเซ็นเจน วอฟลี่

วาล์วและอุปกรณ์ประกอบ / ท่อความบริสุทธิ์สูง

Shenzhen Wofly เทคโนโลยี VMB วาล์วประกอบท่อ

การบําบัดก๊าซออก (เครื่องล้างน้ํา)

อุปกรณ์บําบัดอากาศเชิงเทคโนโลยีเชียงใหม่

เทคโนโลยี Wofly

บริการด้านวิศวกรรมระบบแก๊สพิเศษสําหรับอุตสาหกรรม CVD

ตู้ก๊าซพิเศษแบบอัตโนมัติเต็มของ Wofly Technology (GC) ได้ถูกออกแบบมาเพื่อการจัดส่งก๊าซพิเศษความบริสุทธิ์สูงอย่างปลอดภัยและมั่นคง

สร้างขึ้นในปี 2011 บริษัท เซ็นเจน วอฟลี่ เทคโนโลยี จํากัด เป็นบริษัทเทคโนโลยีสูงระดับชาติ และบริษัทยักษ์เล็กที่ได้รับการยอมรับตามมาตรฐานการเชี่ยวชาญ การปรับปรุง ความแตกต่างและโครงการนวัตกรรมบริษัทมีคุณสมบัติการรับเหมาอาชีพระดับชาติสําหรับวิศวกรรมการติดตั้งเครื่องจักรและไฟฟ้าในอาคาร และเชี่ยวชาญด้านวิศวกรรมระบบการใช้งานก๊าซWofly Technology ให้บริการแบบครบวงจรสําหรับอุตสาหกรรมที่เกี่ยวข้องกับ CVDจากการให้คําปรึกษาทางเทคนิค, การวางแผนทั่วไป, การออกแบบระบบ, การเลือกอุปกรณ์, และส่วนประกอบที่ทําขึ้นล่วงหน้าวงจรธุรกิจของบริษัทนี้ครอบคลุมระบบหลอดแก๊สพิเศษอิเล็กทรอนิกส์, ระบบส่งก๊าซห้องปฏิบัติการ ระบบส่งก๊าซกลาง ระบบส่งก๊าซหลุด ระบบส่งก๊าซเป็นส่วนตัว ท่อระบายน้ําที่สองสําหรับก๊าซความบริสุทธิ์สูงและก๊าซกระบวนการพิเศษรวมถึงระบบส่งสารเคมีและระบบน้ําบริสุทธิ์.

เทคโนโลยีเชนเจน วอฟลี่ วิศวกรรมระบบก๊าซพิเศษ

กระเป๋าสะพายก๊าซพิเศษแบบอัตโนมัติเต็มที่ (GC) ที่ Wofly Technology ได้พัฒนาอย่างเป็นอิสระ มี PLC เป็นแกนควบคุม และพร้อมกับเครื่องล็อคความปลอดภัย เครื่องเตือนการรั่วและฟังก์ชันปิดอัตโนมัติ; ระบบการบําบัดก๊าซออก Scrubber รับประกันการกําจัดก๊าซออกกระบวนการที่สอดคล้องและวาล์วและอุปกรณ์ประกอบของแบรนด์ Aofei Ke AFK® และ Afklok® ของบริษัทตอบสนองความต้องการในการขนส่งสื่อความบริสุทธิ์สูงโซลูชั่นของ Wofly Technology ได้ถูกนําไปใช้ในอุตสาหกรรมต่างๆ เช่น โซลูชั่นครึ่งประสาท, TFT-LCD, โฟโตวอลเตย์, ยาชีวภาพ และสถาบันวิจัยระบบบําบัดก๊าซออก Scrubber ให้การคุ้มครองสุดท้ายสําหรับความเป็นมาของสิ่งแวดล้อมในกระบวนการ CVD.